產(chǎn)品詳情
簡(jiǎn)單介紹：
Savina MX日本進(jìn)口無(wú)塵布在專門的細(xì)針距針織機(jī)上編制而成，其坯布橫向和縱向的收縮率均達(dá)到其原始尺寸的40%。日本進(jìn)口無(wú)塵布未經(jīng)任何粘合劑處理，就達(dá)到了這樣的致密結(jié)構(gòu)。所得擦拭布表面積高達(dá)25,700 c㎡/g，從而確保了在不掉毛的情況下清理灰塵。而傳統(tǒng)擦拭布的表面積僅為2,420 c㎡/g
詳情介紹：
日本進(jìn)口無(wú)塵布特點(diǎn)：
■ 掉毛量極少。
■ 迅速而積極地吸收并留住水分。
■ 殘留離子和其他物質(zhì)的溶解率較低。
■ 具備擦拭布性能（灰塵清理量較大，同時(shí)不會(huì)污染無(wú)塵室設(shè)備）。
日本進(jìn)口無(wú)塵布用途：
■ 光磁盤、硬盤和軟盤的生產(chǎn)過(guò)程
■ 液晶偏轉(zhuǎn)板以及其他物品的生產(chǎn)過(guò)程
■ 光盤和磁盤的生產(chǎn)過(guò)程
■ 錄像機(jī)的生產(chǎn)過(guò)程
■ 隱形眼鏡的生產(chǎn)過(guò)程
■ 相機(jī)裝配線
■ 印刷電路板的清潔工藝
■ 相機(jī)鏡頭鍍膜前的清潔工藝
■ 藥品生產(chǎn)線清潔工藝
■ 電影膠片清潔工藝
■ 半導(dǎo)體和基礎(chǔ)電路的生產(chǎn)過(guò)程
■ 精密涂層之前工件的清潔過(guò)程
日本進(jìn)口無(wú)塵布規(guī)格：
7cm*7cm
15cm*15cm
24cm*24cm
■ 掉毛量極少。
■ 迅速而積極地吸收并留住水分。
■ 殘留離子和其他物質(zhì)的溶解率較低。
■ 具備擦拭布性能（灰塵清理量較大，同時(shí)不會(huì)污染無(wú)塵室設(shè)備）。
日本進(jìn)口無(wú)塵布用途：
■ 光磁盤、硬盤和軟盤的生產(chǎn)過(guò)程
■ 液晶偏轉(zhuǎn)板以及其他物品的生產(chǎn)過(guò)程
■ 光盤和磁盤的生產(chǎn)過(guò)程
■ 錄像機(jī)的生產(chǎn)過(guò)程
■ 隱形眼鏡的生產(chǎn)過(guò)程
■ 相機(jī)裝配線
■ 印刷電路板的清潔工藝
■ 相機(jī)鏡頭鍍膜前的清潔工藝
■ 藥品生產(chǎn)線清潔工藝
■ 電影膠片清潔工藝
■ 半導(dǎo)體和基礎(chǔ)電路的生產(chǎn)過(guò)程
■ 精密涂層之前工件的清潔過(guò)程
日本進(jìn)口無(wú)塵布規(guī)格：
7cm*7cm
15cm*15cm
24cm*24cm
